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이재용 ‘반도체 초격차’ 가속···삼성, 세계 최대규모 평택 2라인 가동

이재용 ‘반도체 초격차’ 가속···삼성, 세계 최대규모 평택 2라인 가동

등록 2020.08.30 11:00

이지숙

  기자

4차 산업혁명 시대 반도체 초격차 달성 위한 핵심 첨단 복합 라인업계 최초 EUV 공정 적용한 3세대 10나노급 16Gb LPDDR5 출하30조원 이상 투자···2년전 약속한 ‘180조원 투자·4만명 고용 계획’ 일환

삼성전자 평택 2라인 전경. 사진=삼성전자 제공삼성전자 평택 2라인 전경. 사진=삼성전자 제공

이재용 삼성전자 부회장이 어려운 여건 속에서도 반도체 신규투자를 적극 확대하며 삼성의 ‘반도체 초격차’ 전략을 이끌고 있다.

삼성전자는 30일 연면적이 12만8900㎡(축구장 16개 크기)에 달하는 세계 최대 규모의 반도체 공장인 평택 2라인 가동에 들어갔다고 밝혔다.

평택 2라인은 D램 양산을 시작으로 차세대 V낸드, 초미세 파운드리 제품까지 생산하는 첨단 복합 생산라인으로 만들어져 4차 산업 혁명 시대의 ‘반도체 초격차’ 달성을 위한 핵심적인 역할을 할 예정이다.

평택 2라인에서 이번에 출하된 16Gb LPDDR5 모바일 D램은 메모리 양산제품으로는 처음 EUV(Extreme Ultraviolet, 극자외선) 공정이 적용됐으며, 역대 최대 용량과 최고 속도를 동시에 구현한 업계 최초의 3세대 10나노(1z) LPDDR5 제품이다.

삼성전자는 올해 2월 2세대 10나노급(1y) 공정으로 역대 최대 용량의 16GB(기가바이트) LPDDR5 D램을 양산한 지 6개월 만에 차세대 1z 공정까지 프리미엄 모바일 D램 라인업을 강화했다.

이번 제품은 기존 플래그십 스마트폰용 12Gb 모바일 D램(LPDDR5, 5,500Mb/s)보다 16% 빠른 6400Mb/s의 동작 속도를 구현했다. 16GB 제품 기준으로 1초당 풀HD급 영화(5GB) 약 10편에 해당하는 51.2GB(기가바이트)를 처리할 수 있다.

또한 16Gb LPDDR5 모바일 D램은 8개의 칩만으로 16GB 제품을 구성할 수 있어 기존 제품(12Gb 칩 8개+8Gb 칩 4개)대비 30% 더 얇은 패키지를 만들 수 있다. 이를 통해 멀티카메라, 5G 등 부품수가 많은 스마트폰과 폴더블폰 같이 두께가 중요한 제품에 최적의 솔루션을 제공할 수 있다.

삼성전자는 글로벌 스마트폰 업체들에게 차세대 1z 16GB 모바일 D램을 업계 유일하게 제공함으로써 내년 출시되는 AI기능이 더욱 강화된 5G 플래그십 스마트폰 시장을 선점할 계획이다. 또 고온 신뢰성도 확보해 전장용 제품까지 사용처를 확대해 나갈 예정이다.

이정배 삼성전자 메모리사업부 DRAM개발실 부사장은 “이번 1z나노 16Gb LPDDR5는 역대 최고 개발 난도를 극복하고 미세공정 한계 돌파를 위한 새로운 패러다임을 제시한 제품”이라며 “프리미엄 D램 라인업을 지속 확대해 고객 요구에 더욱 빠르게 대응하고 메모리 시장 확대에 기여해 나갈 것”이라고 말했다.

한편 이번 평택 2라인은 지난 2018년 8월에 발표한 180조원 투자, 4만명 고용 계획의 일환으로 건설됐으며 삼성전자는 어려운 여건 속에서도 신규투자와 채용을 적극 확대하고 있다.

문재인 대통령은 지난 2018년 7월 삼성전자의 인도 노이다 공장 준공식을 방문해 이 부회장에게 국내투자와 고용 확대를 당부했으며 삼성은 한달 뒤 3년간 180조원을 투자하고 4만명을 직접 고용하겠다는 계획을 발표한 바 있다.

최근 삼성전자에 따르면 이 계획은 현재까지 투자는 130조원, 고용의 경우 작년 연말까지 80% 이상 달성된 상태다.

평택 1라인에 이어 이번 평택 2라인에도 총 30조원 이상의 대규모 투자가 집행된다. 직접 고용하는 인력은 약 4000명으로 예상되고 협력사 인력과 건설인력을 포함하면 약 3만명 이상의 고용창출이 기대된다.

또한 삼성전자는 평택 2라인에 지난 5월 EUV 기반 최첨단 제품 수요에 대비하기 위한 파운드리 생산라인을 착공했으며, 6월에는 첨단 V낸드 수요 확대에 대응하기 위한 낸드플래시 생산라인도 착공했다. 두 라인 모두 2021년 하반기부터 본격 가동할 예정이다.

지난 2015년부터 조성된 평택캠퍼스는 289만㎡의 부지를 가진 삼성전자의 차세대 반도체 전초기지다. 평택 1라인은 2017년 6월 양산을 시작했으며, 평택 2라인은 2018년 1월 착공되어 이번에 처음으로 D램 제품을 출하했다.

삼성전자 측은 “평택캠퍼스에 대한 적극적인 투자로 미래 반도체 시장 기회를 선점해 나갈 계획”이라고 밝혔다.
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