테스는 반도체 소자의 갭필 방법에 대한 특허권을 취득했다고 14일 공시했다. 이는 오버행 현상이 발생하거나 공정원료 가스에 산소를 포함시키는 경우 갭 패턴에 보이드(void)가 생성되는 것을 감소시키는 기술이다. 회사 측은 "장비 제조시 특허기술 적용을 통해 제품경쟁력을 강화할 계획”이라고 밝혔다. 김민수 기자 hms@ 관련태그 #테스 #갭필 #특허 뉴스웨이 김민수 기자 hms@newsway.co.kr + 기자채널 저작권자 © 온라인 경제미디어 뉴스웨이 · 무단 전재 및 재배포 금지 댓글 >Please activate JavaScript for write a comment in LiveRe.
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