엡손 ‘고광량 레이저 프로젝터’ 2종 출시···“성능 올리고 크기 줄이고”

새로 개발한 ‘액체 냉각 시스템’···콤팩트한 본체와 저소음

3LCD·4K 패널 탑재···유연한 설치로 공연·전시에 최적화

엡손 고광량 프로젝터 EB-L12000Q. 사진=엡손 제공

엡손이 새로 개발한 ‘액체 냉각 시스템’을 무기로 공연 전시에 최적화된 고광량 프로젝터를 출시했다.

한국엡손은 3LCD 기술력과 설계 노하우를 집약한 6000루멘(밝기) 이상 고광량 레이저 프로젝터 2종을 5일 동대문디자인플라자에서 선보였다.

이번 신제품 2종(EB-L12000Q·EB-L20000U)의 가장 큰 특징은 LCD 패널 같은 광학 요소를 최적의 온도로 유지하는 ‘액체 냉각 시스템’이다. 엡손은 이를 개발해 본체 크기를 최소화(W620*H280*D720mm)하고 소음 크기도 줄였다.

또 3중 보호 구조로 견고함과 방진 기능을 강화하고 정전 필터로 미세먼지를 걸러 유지 보수 없이 레이저 광원을 최대 2만 시간까지 사용 가능하다.

신제품 2종은 최대 1000인치까지 투사 가능한 것도 특징이다. 넓은 공연장, 대형 전시회, 미디어 파사드에 최적화된 제품이다.

먼저 ‘EB-L20000U’는 2만 루멘 밝기로 야외나 조명이 많은 밝은 환경에서도 생생하게 투사할 수 있다. ‘EB-L12000Q’는 엡손 제품 중 최초의 네이티브(Native) 4K 프로젝터로 1만2000 루멘 밝기를 자랑하며 대화면에서도 선명하고 또렷한 이미지를 구현한다.

공간 사용에서도 효율적이다. 초단초점 제로 오프셋 렌즈 호환으로 폭넓은 투사비율을 지원해 거리나 공간의 제약 없이 설치가 자유롭다. 360도 다방향 투사와 프로젝션 맵핑 기능으로 밝기 손실 없이 자연스러운 이미지 투사가 가능하다.

이번 발표회에서 엡손은 WUXGA(1920x1200) 급 고해상도 프로젝터 ‘EB-L20000U’와 네이티브(Native) 4K 고광량 프로젝터 ‘EB-L12000Q’를 1000인치 화면에 직접 시연했다.

신제품 2종 외 라이트씬 EV-100/EV-105, 레이저 광원 프로젝터 EB-L610U 등 엡손의 다양한 프로젝션 솔루션 또한 전시존에서 시연해 엡손 프로젝터의 기술력을 한눈에 선보였다.

한국엡손 시부사와 야스오 대표는 “이번 신제품은 꾸준히 성장하고 있는 고광량 프로젝터 분야에 엡손이 시장을 리드하기 위해 야심차게 선보인 제품”이라며 “3LCD 기술, 레이저 광원, 4K 패널은 물론 작은 크기, 높은 내구성, 유연한 설치로 최고의 퍼포먼스를 보여줄 수 있어 공연 전시 분야에 혁신을 이끌겠다”고 자신했다.

엡손은 3LCD 기술력을 바탕으로 500루멘 이상 프로젝터 시장에서 17년 연속 글로벌 시장점유율 1위를 기록 중이다.

한편 엡손은 세이코(Seiko)의 시계 부품 개발에서 비롯된 정밀 기술을 다른 분야로 확대해 급속히 발전했다. 1964년 세이코 시계의 도쿄 올림픽 공식 시간 측정기 채택에 이어 1968년 세계 최초의 미니 프린터인 EP-100을 만들었다.

이후 EP-101을 일반인들도 사용할 수 있도록 미니 프린터로 개발해 썬오브 EP-101(Son or EP-1010)을 출시했다. 이 제품이 세계적으로 높은 관심을 받으면서 1975년 엡손이라는 브랜드 이름이 탄생했다. 일본 세이코 엡손이 이끄는 엡손 그룹은 전 세계 85개 회사에 8만1000명 이상 직원이 근무 중이다.

한국엡손은 1996년 10월 세이코엡손의 현지법인이 합작 파트너였던 삼보컴퓨터 프린터 사업부를 인수하며 출범했다. 지난달 기준 94명의 임직원이 ▲잉크젯(프린팅솔루션) ▲비주얼커뮤니케이션 ▲웨어러블 ▲로봇분야 등의 사업 영역에서 근무하고 있다.

엡손 고광량 프로젝터 EB-L20000U. 사진=엡손 제공