전기·전자
[와! 테크]삼성전자 위협하는 인텔, '괴물 EUV' 도입한 배경
미국의 인텔이 '하이 NA EUV(극자외선) 장비'를 공급받았다. 현재 최선단 공정인 3나노(1㎚=10억분의 1m)를 건너뛰고 2나노부터 1.8나노까지 하이 NA EUV를 활용할 예정이다. '괴물 EUV'로 평가되는 이 장비는 극소수만 생산되고 있으며 인텔은 경쟁사보다 앞서 6대를 우선 확보한 것으로 알려졌다. 반도체 성능이 2년마다 2배로 개선되는 '무어의 법칙'에 한계가 따른다는 지적이 나오고 있으나 인텔은 일각의 시선을 뒤집기 위해 하이 NA EU