지난 2015년 5월 첫 삽을 뜬 삼성반도체 공장은 이달 중순 현재 90% 이상 공정률을 보이며, 공장동에 설치된 생산라인은 정상가동에 앞서 시험운행에 들어갔다. 평택 반도체 단지는 총 289만㎡(축구장 400개)에 달하며, 이중 1단계로 75만9천㎡를 개발하고 있다.
이번 공사에 투자된 금액은 15조6천억 원에 이르며 이는 단일 반도체 생산라인 투자로는 사상 최대 규모다.
이곳에서는 메모리 한계를 극복하기 위해 셀을 3차원 수직 구조로 만든 혁신적인 기술의 ‘3D V낸드(Vertical NAND)’ 플래시 메모리를 본격 생산할 예정이다. 공사현장 북쪽 끝에 있는 3D V낸드 플래시 팹(fab·공장)은 가로 500m·세로 200m·높이 80m 크기의 세계최대 규모로 천장 부분의 마무리 공사가 진행되고 있다.
이 공장에서 생산될 3D V낸드 플래시 메모리는 데이터 용량을 더 늘리기 위해 기존 2D 낸드플래시의 미세화 공정 기술 한계를 극복하기 위해 개발된 기술이다.
이 공장이 가동되면 삼성전자는 ‘기흥-화성-평택’으로 이어지는 최첨단 ‘반도체 클러스터’를 구축, 세계적인 반도체 강자로서의 입지를 더욱 굳힐 전망이다.
또한 지역 경제 활성화에도 큰 몫을 할 것으로 보인다. 반도체 단지 인근에는 이미 협력업체 10여 개소가 입주했으며, 공장이 정상가동 되면 많게는 100개 업체까지 늘어날 것으로 보인다.
평택시는 정상가동 시 연간 1천억 원의 지방 세입 증가와 3만여 명의 고용 효과를 기대하고 있다.
뉴스웨이 한재희 기자
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