삼성전자-ASML, EUV 공동 연구소 만든다···미세공정 혁신 주도

12일 ASML 본사에서 EUV 공동 연구소 설립 MOU

최첨단 메모리 개발 위한 EUV 기술 조기 확보 기대

삼성전자가 '슈퍼 을'로 불리는 네덜란드 반도체 장비기업 ASML과 초미세 공정 개발에 나선다. 양 사가 국내에서 극자외선(EUV) 기술을 공동 개발하며 국내 반도체 생태계 조성과 경쟁력 강화에도 속도가 붙을 전망이다.

삼성전자와 ASML은 12일(현지시간) 네덜란드 ASML 본사에서 열린 한국-네덜란드 반도체 협력 협약식에서 차세대 메모리 노광장비 개발을 위한 EUV 공동연구소 설립에 대한 업무협약(MOU)를 체결했다.

12일(현지시간) ASML 본사에서 열린 한-네덜란드 첨단반도체 협력 협약식을 마친 뒤 기념촬영을 하고 있다. 왼쪽부터 최태원 SK그룹 회장, 윤 대통령, 빌럼-알렉산더르 네덜란드 국왕, 이재용 삼성전자 회장, 피터 베닝크 ASML 최고경영자. 사진=연합뉴스 제공

EUV 공동 연구소는 국내 수도권 지역에 건설될 예정으로 삼성전자와 ASML은 7억 유로(약 1 조원)를 투자해 차세대 노광 장비 개발을 추진할 예정이다. 각사 투자 금액은 비공개하기로 했다.

ASML이 삼성전자와 MOU 체결을 한 것은 글로벌 메모리 반도체 1위 국가인 한국에 투자를 하는 것이 차세대 노광 기술 확보에 유리하다는 전략적 판단에 따른 것으로 풀이된다.

삼성전자는 이번 MOU를 통해 최첨단 메모리 개발에 필요한 차세대 EUV 양산 기술을 조기에 확보하고, 1993년부터 30년간 지켜 온 글로벌 메모리 1위의 위상을 굳건히 지켜나갈 계획이다.

이번 공동 연구소 건립은 차세대 노광장비 개발에 대한 국내 생태계 조성과 성장에도 촉매제 역할을 할 것으로 기대된다.

반도체 업계 관계자는 "국내 설비소재 협력사의 성장과 반도체 인재 육성에도 기여할 것으로 기대되며, 이는 국가 반도체 경쟁력 확보로도 이어질 것"이라고 말했다.

한편 전 세계 반도체 업계는 미세공정의 한계를 극복하기 위해 다양한 시도를 하고 있다.

방대한 데이터를 처리해야 디지털 트랜스포메이션 시대는 차원이 다른 ▲고성능 ▲고용량 ▲저전력을 충족시키는 메모리 반도체를 요구하고 있기 때문이다.

삼성전자도 지난 30년간 과감한 투자와 지속적인 기술혁신으로 미세공정의 한계를 돌파하고 있다.

차세대 반도체 구현을 위해서는 EUV 기술 확보가 핵심이라는 판단에 따라 2000년대부터 ASML과 초미세 반도체 공정 기술 및 장비 개발 협력을 지속해 2012년에는 ASML 지분 투자를 통해 파트너십을 강화했다. 당시 삼성전자는 지분 3%를 인수했으며 현재도 0.4%를 보유 중이다.

이를 통해 삼성전자는 ▲업계 최초 EUV 공정 적용 D램 적용 ▲업계 최선단 14나노 D램 양산 ▲업계 최선단 12나노 D램 등의 성과를 거뒀다.

삼성전자는 이번 공동 연구소 설립을 통해 차세대 노광 장비를 조기에 적극적으로 도입하고 생산 비중도 확대해 메모리 미세공정 혁신을 주도해 나갈 계획이다.