SK하이닉스 이천공장서 이산화규소 누출···큰 피해 없어

SK하이닉스 이천공장에서 이산화규소 가스가 누출됐으나 큰 인명피해는 발생하지 않았다.

경기 이천소방서는 5일 오전 11시 25분께 경기 이천시 부발읍 SK하이닉스 D램 반도체 공장에서 가스 공급배관 이음새 틈으로 이산화규소 가스가 누출돼 작업자 2명이 이 가스를 마셔 인근 병원으로 이송됐다고 밝혔다.

아울러 같은 공장에서 일하던 작업자 39명도 같은 병원으로 이동해 진료를 받았다.

가스를 흡입한 작업자 2명은 두통과 구토 증세를 호소했다. 그러나 의식이 분명했고 들것에 실려 가지 않고 걸어서 병원에 들어갔고 검진 결과 심각한 상태가 아닌 것으로 판명되면서 병원 방문 30여분 만에 귀가 조치됐다.

함께 병원을 찾은 39명의 작업자도 특별한 이상 증세는 없지만 혹시 모를 상황에 대비해 건강 상황을 점검하고자 병원을 방문했다.

한편 이산화규소는 불산 등 반도체 생산 공정에 투입되는 다른 물질과 달리 인체에 치명적인 물질이 아닌 것으로 알려졌다.

부상자가 옮겨진 병원 관계자는 "부상자 2명은 진료 결과 특이사항이 발견되지 않아 병원 방문 후 30여분 만에 귀가조치했다"고 말했다.

SK하이닉스 측은 사고 직후 부상자를 병원에 옮긴 뒤 가스 공급배관 이음새를 교체해 오후 1시 20분께 조치를 완료했다.

소방당국은 정확한 사고 경위를 조사하고 있다.

정백현 기자 andrew.j@