SK하이닉스-도시바, 전방위 협력 체제 구축··· 1兆대 소송도 취하

SK하이닉스가 일본 도시바와 차세대 반도체 나노 공정 기술의 공동 개발을 비롯한 전방위 협력 체계를 구축하기로 합의했다.

이와 함께 도시바 측 역시 SK하이닉스에 제기한 1조원대 손해배상 소송을 전격 취하했다.

19일 SK하이닉스는 도시바와 함께 나노임프린트 리소그래피(NIL·Nono Imprint Lithography) 기술 개발에 착수하기로 결정했다고 공시했다. NIL은 메모리 반도체 공정 미세화의 한계를 극복하는 차세대 기술을 말한다.

두 기업은 향후 NIL 기술 개발의 성공 가능성을 높이는 동시에 기술 상용화를 통한 메모리 제품 원가 경쟁력 향상을 도모하고 메모리 반도체 부문의 선두권 업체 입지 강화를 도모한다는 계획이다.

한편 이번 협력 체계 구축 직후 SK하이닉스와 도시바는 전체 소송 규모의 27% 수준인 2억7800만달러를 지급하는 선에서 소송 취하에 합의하기로 결정했다고 밝혔다.

SK하이닉스는 지난 2007년 특허 라이선스 계약을 체결한 이후 도시바와 장기간 협력 관계를 유지해왔다. 하지만 SK하이닉스 전 직원이 부정경쟁방지법 위반 혐의로 일본 검찰에 의해 기소되자, 도시바는 SK하이닉스 또한 정보를 활용했다며 소송을 제기한 바 있다.

아울러 SK하이닉스는 기존 반도체 부문의 상호 라이선스 계약 및 제품 공급 계약을 연장하기로 합의했다.


김민수 기자 hms@