이재용의 새해 첫 현장은 ‘반도체연구소’···시스템 반도체 1위 목표

“잘못된 관행과 사고 과감히 폐기하자”

“우리 이웃, 우리 사회와 나누고 성장해야”

지난해 8월 6일 이재용 삼성전자 부회장(오른쪽부터)이 김기남 DS부문 대표이사 부회장, 백홍주 TSP총괄 부사장, 진교영 메모리사업부장 사장과 함께 삼성전자 온양캠퍼스(충청남도 아산 소재)를 방문해 현장을 돌아보고 있다. 사진=삼성전자 제공

이재용 삼성전자 부회장이 새해 첫 현장 경영 행보로 화성 반도체 연구소를 방문해 임원들과 차세대 반도체 전략을 논의했다.

2일 삼성전자는 이 부회장이 이날 경기도 화성사업장 내에 있는 반도체 연구소를 찾아 삼성전자가 세계 최초로 개발한 3나노 공정기술을 보고 받고 DS(디바이스솔루션)부문 사장단과 차세대 전략을 논의했다고 밝혔다.

이 부회장은 “과거의 실적이 미래의 성공을 보장해주지 않는다. 역사는 기다리는 것이 아니라 만들어가는 것”이라며 “잘못된 관행과 사고는 과감히 폐기하고 새로운 미래를 개척해 나가자”고 당부했다.

또한 “우리 이웃, 우리 사회와 같이 나누고 함께 성장하는 것이 우리의 사명이자 100년 기업에 이르는 길임을 명심하자”고 강조했다.

이 부회장이 새해 첫 경영 행보를 반도체 개발 현장에서 시작한 것은 메모리에 이어 시스템 반도체 분야에서도 세계 1위가 되겠다는 비전을 다시 한번 임직원과 공유하며 목표달성 의지를 다진 것이라고 삼성전자는 설명했다.

이 부회장은 지난해 첫 일정으로는 경기 수원사업장 5세대 이동통신(5G) 네트워크 통신장비 생산라인 가동식에 참석했다.

한편 3나노 반도체는 반도체 미세화 한계를 극복할 수 있는 차세대 기술 ‘GAA(Gate-All-Around)’이 적용됐다.

최근 공정 개발을 완료한 5나노 제품과 비교해 칩 면적을 약 35% 이상 줄일 수 있으며 소비 전력도 50% 감소시키면서 성능(처리속도)은 약 30% 향상시킬 수 있다.