EUV 반도체 생산라인 점검
이 부회장이 화성사업장을 찾은 것은 지난달 2일 새해 첫 업무로 사업장을 둘러본지 50여일 만이다.
이 부회장이 방문한 ‘V1 라인’은 삼성전자의 첫 EUV 전용 라인이다. 최근 본격적으로 7나노 이하 반도체 생산에 돌입했으며, 앞으로 차세대 파운드리(반도체 위탁생산) 제품을 주력으로 생산할 계획이다.
이 부회장은 현장 직원들과 만나 “지난해 우리는 이 자리에 시스템반도체 세계 1등의 비전을 심었고, 오늘은 긴 여정의 첫 단추를 꿰었다”며 “이곳에서 만드는 작은 반도체에 인류사회 공헌이라는 꿈이 담길 수 있도록 도전을 멈추지 말자”고 말했다.
EUV는 파장이 짧은 극자외선 광원을 사용해 웨이퍼에 반도체 회로를 새기는 기술이다. 불화아르곤(ArF)을 이용한 기존 기술보다 세밀한 회로 구현이 가능해 고성능·저전력 반도체를 만드는데 필수적이라는 게 회사측 설명이다.
삼성전자는 지난해 ‘반도체 비전 2030’을 발표하고 시스템반도체에 133조원 투자 및 1만5000명 채용 등 생태계 육성 지원방안을 밝힌 바 있다.
1월초 화성사업장을 방문했을 땐 반도체부문 사장단과 함께 3나노 반도체 개발 현장을 찾아 직원들을 격려하며 “과거의 실적이 미래의 성공을 보장해주지 않는다. 역사는 기다리는 것이 아니라 만들어가는 것”이라며 새로운 미래 개척을 강조했다.
관련태그
뉴스웨이 김정훈 기자
lennon@newsway.co.kr
저작권자 © 온라인 경제미디어 뉴스웨이 · 무단 전재 및 재배포 금지
댓글