SK하이닉스, EUV 첫 도입 ‘M16’ 준공···최태원 “반도체 큰 계획 완성”

EUV 노광 장비 도입

4세대 10나노급 D램 생산

최태원 SK 회장이 1일 비대면 방식으로 진행된 SK하이닉스의 신규 M16 팹 준공식에 참여해 인사말을 하고 있다. 구성원과 협력회사 직원들은 화상연결을 통해 언택트로 행사에 참여했다. 사진=SK하이닉스 제공

SK하이닉스가 국내외 생산 시설 중 최대 규모인 M16 팹을 준공하고 극자외선(EUV) 도입 등 미세공정 기술 리더십 강화에 나섰다.

1일 SK하이닉스는 경기도 이천 본사에서 최태원 회장과 최재원 수석부회장, 조대식 SK수펙스추구협의회 의장, 박정호 SK하이닉스 부회장 및 이석희 사장 등 경영진이 참석한 가운데 M16 준공식을 개최했다.

이날 준공식에 참석한 최태원 회장은 “반도체 경기가 하락세를 그리던 2년 전 우리가 M16을 짓는다고 했을 때 우려의 목소리가 많았으나 이제 반도체 업사이클 얘기가 나오고 있는 만큼, 어려운 시기에 내린 과감한 결단이 더 큰 미래를 꿈꿀 수 있게 해줬다”고 소회를 밝혔다.

이어 “M16은 그동안 회사가 그려온 큰 계획의 완성이자 앞으로 용인 클러스터로 이어지는 출발점으로서 중요한 상징으로 남을 것”이라고 말했다.

최 회장은 또 “M16의 탄생 과정에서 수많은 사람들의 도움이 있었던 만큼, 이제 M16이 그분들의 행복에 기여할 것”이라며 “경제적 가치뿐만 아니라 협력회사 상생, 환경보호, 지역사회 발전 등 ESG 측면에서도 다양한 가능성을 모색해 달라”고 당부했다.

신공장은 SK하이닉스가 2018년 11월 착공에 들어가 25개월 만에 완공됐다. 총 3조5000억원 투자비에 공사 인력은 연 인원 334만 명이 투입된 최대 생산 시설이다.

M16은 D램 제품을 주로 생산하게 된다. 규모를 보면 축구장 8개에 해당하는 5만7000㎡(1만7000여 평)의 건축면적에 길이 336m, 폭 163m, 높이는 아파트 37층에 달하는 105m로 들어섰다.

M16에는 SK하이닉스 최초로 EUV 노광 장비가 도입된다. SK하이닉스는 최첨단 인프라를 기반으로 이 팹을 차세대 성장동력으로 키워낼 계획이다.

EUV 장비를 활용해 올 하반기부터 4세대 10나노급(1a) D램 제품을 생산할 예정이다. SK하이닉스 관계자는 “향후 이 장비의 활용도를 더 높이면 메모리반도체 미세공정 기술 리더십도 더욱 강화될 것”이라고 설명했다.

M16 준공은 SK하이닉스가 2015년 이천 M14 준공식에서 발표한 ‘미래비전’의 조기 달성이란 점에서 의미가 있다는 평가다.

SK하이닉스는 지속적인 반도체 산업 리더십 확보를 위해 2014년부터 10년 내 M14를 포함해 국내 3개의 신규 팹을 구축하겠다는 계획을 발표한 바 있다.

이후 2018년 청주 M15에 이어 이번에 M16을 준공해 미래비전을 3년 앞당겨 완성했다.

이석희 CEO는 “M16은 EUV 전용 공간, 첨단 공해 저감 시설 등 최첨단 인프라가 집결된 복합 제조시설”이라며 “향후 경제적 가치 창출은 물론, ESG 경영에도 기여하는 한 단계 높은 차원의 생산기지가 될 것”이라고 말했다.